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PVD真空镀膜的物理过程
来源：长辰实业 日期：2020-08-31
PVD真空镀膜的物理过程
PVD（物理气相沉积技术）的基本原理可分为三个工艺步骤：
（1）镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源
（2）镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应
（3）镀料粒子在基片表面的沉积
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