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PVD真空镀膜的物理过程

来源:长辰实业  日期:2020-08-31

PVD真空镀膜的物理过程


东莞PVD真空镀膜


PVD(物理气相沉积技术)的基本原理可分为三个工艺步骤:


(1)镀料的气化:即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源


(2)镀料粒子((原子、分子或离子)的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞,产生多种反应


(3)镀料粒子在基片表面的沉积

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