PVD涂层是指在真空条件下使用低电压、大电流电弧放电技术，利用气体放电蒸发目标和电离蒸发的物质和气体，利用电场加速将蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上。PVD涂层是一个复杂的过程，尤其是应用于工具和模具的PVD涂层，要求涂层的各个方面都具有很高的性能。影响涂装性能的因素很多。

1.薄膜的生长提高了温度，有利于薄膜的结构和性能。氮钛、氮钛等涂层。在400-600℃的合适温度下，可以获得更好的硬度和结合力。

2.PVD镀膜过程中的温度与结合力、硬度等无线关系。涂装过程中，温度过低，薄膜生长不足，表面粗糙，耐腐蚀性和显微硬度降低。高温容易产生粗大的柱状晶体。导致基材结构恶化，结合力下降，薄膜性能下降。

3.提高衬底温度可以去除挥发性残留物，增强表面扩散和再结晶。加速界面反应，扩散底层杂质。基质融化。

增大晶体颗粒的大小。促进再结晶界面的延伸生长，降低内应力，增加阶梯覆盖率，增加与衬底相互作用所需的涂层温度，取决于工件的金相结构、热处理、几何形状，如锐边、薄板的快速加热和温度测量。弧形电流。基体偏压和反应压力也会影响温度。涂层可以从180开始。工件应在不会引起材料物理变化的温度下涂覆。

4.PVD涂层温度超过回火点，软化工件。

5.如果镀膜真空室零件少，工件周围会聚集更多的等离子体，导致工件温度高，沉积率高。